Etude des résines à amplification chimique 193 nm de tonalité positive ou négative pour une application microélectronique sub65 nm
Langue Français
Langue Français
Auteur : May, Michael Julian
Date de soutenance : 21-01-2008
Directeur(s) de thèse : Hadziioannou, Georges
Établissement de soutenance : ULP - Université Louis Pasteur (Strasbourg)
École doctorale : École doctorale Physique et chimie-physique (Strasbourg ; 1994-....)
Date de soutenance : 21-01-2008
Directeur(s) de thèse : Hadziioannou, Georges
Établissement de soutenance : ULP - Université Louis Pasteur (Strasbourg)
École doctorale : École doctorale Physique et chimie-physique (Strasbourg ; 1994-....)
Discipline :
DISC-20
Classification : Physique
Mots-clés libres : Microélectronique, Résines à amplification chimique positives et négatives, 193 et 248 nm, Modifications chimiques, Gravure plasma, Lithographie par immersion, Résolution limite
Mots-clés :
Classification : Physique
Mots-clés libres : Microélectronique, Résines à amplification chimique positives et négatives, 193 et 248 nm, Modifications chimiques, Gravure plasma, Lithographie par immersion, Résolution limite
Mots-clés :
- Microélectronique - Thèses et écrits académiques
- Lithographie - Thèses et écrits académiques
Type de contenu : Text
Format : PDF
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Entrepôt d'origine :
Identifiant : ecrin-ori-58946
Type de ressource : Thèse
Identifiant : ecrin-ori-58946
Type de ressource : Thèse