Etude de l'intégration de vias traversants réalisés par MOCVD en vue de l'empilement en 3D des composants microélectroniques
Langue Français
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Auteur : Djomeni Weleguela, Monica Larissa
Date de soutenance : 15-12-2014

Directeur(s) de thèse : Mathiot, Daniel

Président : Turek, Philippe
Rapporteur(s) : Joubert, Olivier Pierre Etienne - Renevier, Hubert
Membre(s) du jury : Haxaire, Katia

Établissement de soutenance : Strasbourg
Laboratoire : Laboratoire des sciences de l'ingénieur, de l'informatique et de l'imagerie (Strasbourg ; 2013-....)
École doctorale : École doctorale Mathématiques, sciences de l'information et de l'ingénieur (Strasbourg ; 1997-....)
 
Discipline : Electronique, microélectronique, photonique
Classification : Sciences de l'ingénieur

Mots-clés libres : 3D-IC, TSV, TiN, Cu, IPVD, MOCVD, Barrière, Couche d’accroche, Caractérisation
Mots-clés :
  • MOS complémentaires
  • Dépôt en phase vapeur
  • Microélectronique - Matériaux
  • Modélisation tridimensionnelle
Résumé : Ces dernières années, l’évolution de la taille des circuits intégrés a été dirigée par la loi de Moore conduisant à des noeuds technologiques de 22 nm et en-deçà. Cependant, les problématiques de performances, de taille et de coût des composants rendent cette conjecture difficile à suivre. La tendance de diversification appelée « More than Moore » consiste à intégrer des fonctions analogiques avec des technologies CMOS dans le but d’optimiser les coûts.L'une de ses technologies clés est le TSV, qui maintient le contact entre deux niveaux de composants. Leurs facteurs de forme devenant de plus en plus élevés, les techniques de dépôts standards par iPVD sont proches de leurs limites. De plus, les méthodes de caractérisation usuelles ne sont pas adaptées à ces structures.La première partie de cette thèse sera dédiée au développement des procédés de dépôt de la barrière de diffusion du cuivre par MOCVD à basse température pour s’adapter aux divers schémas d'intégration de type via middle et via last. La deuxième partie sera consacrée à l’élaboration des protocoles avancés de caractérisation des films dans ces structures afin d’étudier leurs comportements en intégration.
 
Type de contenu : Text
Format : PDF
 
Entrepôt d'origine : STAR : dépôt national des thèses électroniques françaises
Identifiant : 2014STRAD013
Type de ressource : Thèse